国微芯突破EDA底层技术瓶颈，研制国内首款且唯一一款自主研发的SMDB数据库，并构建了平台。该平台有效解决制造端数据格式兼容问题、避免精度丢失。数据库读写速度快、支持大规模版图和几何计算，且集成了云计算与AI技术，性能超国外主流工具3倍，支持5nm/3nm芯片。

国微芯自研的高效几何计算引擎，支持大规模复杂版图计算。其速度和精度与国际主流水平相当。该款几何计算引擎具备高性能查询能力，每秒可查询亿级图形，为公司物理验证、掩膜数据检查等自研工具，提供高性能、高可靠性计算支持，打破国外技术垄断，实现核心技术自主可控。

针对集成电路制造挑战，国微芯自研多重曝光工具，依托SMDB超高速版图数据库与高性能几何计算引擎，实现超大规模版图数据精确拆分，性能超商用工具5倍，有效提升 DUV 光刻机在先进工艺中的良率。该技术体系打破国外垄断，加速28/14/7nm工艺自主化进程，降低对高端技术人才的依赖。

面对芯片制造中的复杂挑战，如多重曝光和机台技术限制，国微芯利用其在设计端与制造端的核心工具，构建了高效的DTCO流程，不仅满足了多重曝光带来的特殊制造需求，还显著提升了设计效率，并为国内机台技术限制提供了有效的解决方案，从而确保了芯片性能的稳定与优化。