芯天成物理验证平台 EssePV
EsseDBScope
EsseFill
EsseColoring
EsseDiff
产品简介
芯天成版图集成工具EsseDBScope，提供了TB级版图数据的快速加载及快速查看能力，同时集成版图查询、定位、测量、标记、缩放等功能，支持快速trace、Metal Density、LVL等数据分析处理，是一个高效易用的版图集成平台。
该产品基于独创的数据压缩算法，支持数据Hierarchy存储，可实现大规模版图数据的秒开。该产品同时提供强大易用的script引擎，可实现软件功能的灵活定制；自研Boolean Engine提供高效稳定的图形计算，为海量数据的处理分析提供有力支撑。
核心优势
大规模版图数据快速加载及可视化；
高效的内存利用率；
灵活高效易用的script解决方案；
快速强大的trace引擎；
高效快速的Boolean Engine。
产品功能
版图数据的快速加载和可视化呈现；
支持大量版图数据的Trace/Find Short；
支持软件full script operator及replay；
支持ruler测量、删除及自动吸附；
提供快速Metal Density及HeatGraph显示；
支持基于Hierarchy DB LVL。
产品简介
芯天成基于cell的版图填充工具EsseFill，可为各类技术节点提供高填充能力、稳定和高速的工业级的全芯片版图填充解决方案，以应对半导体制造CMP工艺中的dishing效应、erosion效应等造成的工艺窗口萎缩以及带来的良率问题。
本产品基于高性能统一数据底座和分布式架构、集成高性能几何计算引擎、单层cell图形模型和多层cell图形模型等先进填充图形算法，能够高速处理超大规模版图数据，为复杂电路版图及先进工艺制造提供高性能的解决方案。
核心优势
支持先进技术节点全版图图形填充；
高性能统一数据底座；
高性能几何图形引擎；
业界领先分布式架构；
提供单层及多层cell图形定义技术；
高度可定制化的密度优化方程式。
产品功能
基于几何特征的图形定义；
单层及多层的多个polygon平台化定义模型；
精确的版图网格化密度优化模型；
简洁有效的参数化填充区域约束语法方案；
错位及局部旋转填充的高填充能力算法。
应用方案
产品简介
芯天成版图拆分验证工具EsseColoring，可根据工艺规则将同一版图层次拆分成双重版图，并可验证拆分后的版图，是16nm及以下的先进工艺中的双重或多重曝光核心技术方案。
该产品基于国微芯分布式计算架构和集成高性能统一数据库、高性能几何图形计算引擎等先进模块，并且使用了内部DRC规则检查相同的数据结构和搜索算法，可快速验证超大规模的版图数据，加速产品的验证时间。
核心优势
领先于业界的多机分布式运行模式；
与DRC规则检查共用数据结构和验证算法；
支持超大规模的版图数据；
产品功能
支持hier和flatten模式运行；
支持跨机运行；
支持将版图图层进行双重拆分；
支持验证双重版图是否满足双重曝光相关的工艺规则。
应用方案
输入版图和工艺规则文件；
hier或flatten运行模式选择。
产品简介
芯天成版图区别验证工具EsseDiff，可为各类工艺节点提供稳定、准确和高速的版图区别验证技术解决方案，以应对芯片设计中的ECO版图改变验证，以及版图修改预期符合验证等需求。
该产品基于分布式计算架构和集成高性能统一数据库、高性能几何图形引擎等先进算法，可以高速处理超大规模版图数据，为复杂几何图形及先进工艺规则提供高精度的解决方案。
核心优势
创新的OOVF规则语法；
领先业界的多机分布式运行模式；
高CPU模式下的极限加速比远优于业界水平。
产品功能
支持hier和flatten模式运行；
支持跨机运行；
支持各种设计工艺的图形区别验证；
支持自动LVL设计规则产生。
应用方案
任意两输入版图对比；
层次化或扁平化运行选择；
64cpu可显性能的极限加速比。
